真空鍍膜行業(yè)發(fā)展趨勢，低耗能無污染**技術

時間：2024-02-28

1、真空鍍膜行業(yè)技術水平及特點

多功能磁控濺射儀（高真空磁控濺射鍍膜機）-鵬城半導體

真空鍍膜是表面處理技術的一項分支，是指為了減少雜質(zhì)的干擾，在高度真空環(huán)境下，通過物理或化學手段，將金屬、非金屬或化合物材料（膜材）轉換成氣態(tài)或等離子態(tài)，并沉積于玻璃、金屬、陶瓷、塑料或**材料等固體材質(zhì)（簡稱基材、基板或基片）表面形成薄膜的過程。

利用真空鍍膜技術鍍制薄膜后，可使材料表面獲得新的復合性能并實現(xiàn)新型的工程應用，賦予材料表面新的機械功能、裝飾功能和聲、電、光、磁及其轉換等特殊功能（例如防輻射、增減透光、導電或絕緣、導磁、抗氧化、耐磨損耐高溫耐腐蝕等），從而改善產(chǎn)品原有性能、提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長產(chǎn)品壽命等。和傳統(tǒng)鍍膜方法（如電鍍、化學鍍膜）相比，真空鍍膜使用的鍍膜材料種類較豐富、膜層厚度較易控制、附著力較強、適用范圍較廣，在操作過程中較加節(jié)能、安全、環(huán)保。

真空鍍膜技術與傳統(tǒng)的電鍍、熱浸鍍技術相比較，主要有三大優(yōu)勢：一是不影響被鍍材料的質(zhì)量，在加熱鍍膜材料時，不需要過高溫度，因此不會出現(xiàn)被鍍材料在幾何尺寸上發(fā)生變形或降低材質(zhì)性能等現(xiàn)象；二是可以較大范圍內(nèi)自由選擇鍍膜材料，較容易在組成和構造上對膜材進行控制；三是鍍膜過程與電鍍、熱浸鍍技術相比，對周圍環(huán)境影響較小。

三類真空鍍膜技術介紹及如下：

1、真空蒸發(fā)鍍膜：加熱膜材使表面組分以原子團或分子團形式被蒸發(fā)出來，并沉降在基片表面形成薄膜

高真空電子束蒸發(fā)鍍膜機-鵬城半導體

2、真空磁控濺射鍍膜：用高能等離子體轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，較終形成薄膜

高真空磁控濺射鍍膜機-鵬城半導體

3、真空離子鍍膜：在真空條件下，利用氣體放電使工作氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)（膜材）部分離化，在工作氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)的離子轟擊作用下，把蒸發(fā)物或其反應物沉積在被鍍基片表面

真空鍍膜行業(yè)發(fā)展態(tài)勢

真空鍍膜設備除應用在消費電子、集成電路、光學光電子元器件等領域外，還可以應用于醫(yī)療器械、航空航天、太陽能、塑料、包裝、紡織、機械、防偽、建筑等領域。為加快發(fā)展**制造業(yè)，提高重大裝備國產(chǎn)化水平，國家一直積極鼓勵發(fā)展**、精密、**精密制造技術的開發(fā)和運用，先后發(fā)布了《新材料產(chǎn)業(yè)發(fā)展指南》《關于實施制造業(yè)升級改造重大工程包通知》《國民經(jīng)濟和社會發(fā)展*十四個五年規(guī)劃和 2035 年遠景目標綱要》等政策法規(guī)。

隨著國家對環(huán)境保護的日益重視，真空鍍膜的高性價比、低污染的特點將成為表面處理業(yè)內(nèi)主流技術。一方面，表面處理技術發(fā)展趨勢是向低耗能無污染的技術方向發(fā)展，真空鍍膜技術依附其環(huán)保節(jié)能、安全可控的特性，配合國家可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略，市場覆蓋率迅速擴大。

另一方面，表面處理技術對于被處理對象的表面進行各種改性改造，增強了被處理對象表面的耐磨性、耐腐蝕性、光滑度等屬性，使被處理對象在使用過程中大大減少了損耗和浪費，起到了節(jié)能環(huán)保作用，符合國家在產(chǎn)業(yè)政策和產(chǎn)業(yè)規(guī)劃上的導向。在此背景下，掌握了低耗能無污染**技術的國內(nèi)企業(yè)，能夠搶占市場先機。

鵬城半導體技術（深圳）有限公司

生產(chǎn)制造商：鵬城半導體技術（深圳）有限公司

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