KRi 離子源 e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應(yīng)用

時間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：39

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  詞條說明

• KRI 霍爾離子源應(yīng)用于黑膜鍍制

  ? ?? ? ?黑膜鍍制,?是指將入射到材料表面的光線,?包括紫外光、可見光、近紅外光以及中遠(yuǎn)紅外波段的光,?幾乎全部吸收而基本沒有反射的表面處理技術(shù).?高的吸收率使黑膜有著廣闊的應(yīng)用前景.?如可在精密光學(xué)儀器和光學(xué)零件、醫(yī)療儀器、航空航天、外觀裝飾品等產(chǎn)品上得到廣泛使用,?可大幅度提高產(chǎn)

• HVA 真空閥門71000系列, 適用于苛刻的真空環(huán)境, 易于維護(hù)

  說到真空閥門, HVA 是繞不開的, HVA 真空閥門是行業(yè)的者. HVA真空閥門包含HVA 真空矩形閥、HVA 真空閘閥, 真空插板閥、HVA 真空角閥等.?在 HVA 真空閥門中 71000 系列閥門, 憑借其在 HVA 閥門中廣為人知的性和性, 使用壽命 > 250,000 cycles 啟閉次數(shù).?HVA?真空閥門?71000 系列由堅(jiān)固的不繡

• KRI 離子源用于IR-cut紅外濾光片制備

  ??紅外截止濾光片?(IRCF)?是利用精密光學(xué)鍍膜技術(shù)在光學(xué)基片上交替鍍上高低折射率的光學(xué)膜,?實(shí)現(xiàn)可見光區(qū)（400nm-630nm）高透,?近紅外（700nm-1100nm）截止的光學(xué)濾光片,?主要應(yīng)用于可拍照手機(jī)攝像頭、電腦內(nèi)置攝像頭、汽車攝像頭和安防攝像頭等數(shù)碼成像領(lǐng)域,?用于紅外光線對?CCD/CM

• KRI 考夫曼射頻離子源濺射沉積立方氮化硼薄膜

  立方氮化硼（cBN）由于具有高的硬度/ 好的化學(xué)惰性/ 較好的熱穩(wěn)定性/ 高的熱導(dǎo)率/ 在寬波長范圍內(nèi)(約從 200nm 開始) 有很好的透光性/ 可摻雜為 n 型和 p 型半導(dǎo)體等特點(diǎn), 在切削工具/ 材料/ 光學(xué)元件表面涂層/ 高溫/ 高頻/ 大功率/ 抗輻射電子器件/ 電路熱沉材料和絕緣涂覆層等方面具有很大的應(yīng)用潛力.?在對立方氮化硼 (cBN) 薄膜研究中, 西北某金屬研究所采用