稀土靶材

時(shí)間：2022-09-20作者：東莞市鼎偉新材料有限公司瀏覽：931

對(duì)濺射類鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且較終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，較終形成薄膜。




濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。

濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對(duì)較差（因?yàn)槭敲}沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。



以pld為例，因素主要有：

靶材與基片的晶格匹配程度

鍍膜氛圍（低壓氣體氛圍）
基片溫度
激光器功率
脈沖頻率
濺射時(shí)間
對(duì)于不同的濺射材料和基片，較佳參數(shù)需要實(shí)驗(yàn)確定，是各不相同的，鍍膜設(shè)備的好壞主要在于能否精確控溫，能否保證好的真空度，能否保證好的真空腔清潔度。







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