要想知道氧化鋯陶瓷表面是否可以PVD真空鍍黑色,首先我來(lái)了解一下氧化鋯陶瓷特點(diǎn)和PVD真空鍍膜的原理。
氧化鋯是一種特殊的材料,純氧化鋯的分子量為123.22,理論密度是5.89g/cm3,熔點(diǎn)為2715℃。氧化鋯陶瓷的熔點(diǎn)和沸點(diǎn)高、硬度大、常溫下為絕緣體、而高溫下則具有導(dǎo)電性等優(yōu)良性質(zhì)。
我們通常所說(shuō)的PVD真空鍍膜,指的就是真空離子鍍膜和真空濺射鍍;通常說(shuō)的NCVM鍍膜,就是指真空蒸發(fā)鍍膜;典型的PVD涂層加工溫度在250℃-450℃之間;涂層種類和厚度決定工藝時(shí)間,一般工藝時(shí)間為3-6小時(shí);PVD鍍膜膜層的厚度為微米級(jí),厚度較薄,一般為0.3μm-5μm,其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm-1μm,因此可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能,并能夠維持工件尺寸基本不變,鍍后不需再加工。
從以上內(nèi)容看出,只要氧化鋯陶瓷耐高溫,不會(huì)因?yàn)檎婵諣t內(nèi)高溫而改變?cè)械奶沾商匦?,就是可以PVD真空鍍黑色的。PVD真空鍍后還會(huì)有耐磨,硬度等一系列的常規(guī)測(cè)試,可驗(yàn)證產(chǎn)品的特性。
詞條
詞條說(shuō)明
真空鍍膜產(chǎn)品出現(xiàn)膜臟的改善對(duì)策之一
改善真空鍍膜產(chǎn)品膜臟的對(duì)策如下:膜臟(又稱白壓克)顧名思義,膜層很臟。一般的膜臟發(fā)生在膜內(nèi)或膜外。臟可包括:灰塵點(diǎn)、白霧、油斑、指紋印、唾液點(diǎn)等。下面單獨(dú)介紹下灰點(diǎn)臟?;尹c(diǎn)臟現(xiàn)象:鏡片膜層表面或內(nèi)部有一些點(diǎn)印(不是膜點(diǎn)),有的可以擦除,有的不能擦除。而且會(huì)有點(diǎn)脫膜。原因:1.真空室臟。當(dāng)真空室開(kāi)始抽真空時(shí),空氣渦流將真空室底板和護(hù)板的臟灰?guī)У界R片上,形成灰點(diǎn)層。(膜內(nèi)不能擦除,會(huì)有點(diǎn)狀脫膜)2.鏡
金屬真空電鍍廠-盤(pán)點(diǎn)電鍍材質(zhì)
金屬真空電鍍廠可以鍍出五顏六色的膜層,這種膜層有防腐、耐磨性能。但并不是所有的材質(zhì)都適合真空電鍍,森豐小編在此盤(pán)點(diǎn)一下,那些材質(zhì)可以直接真空鍍,那些材質(zhì)需要先化學(xué)鍍鉻、鎳或者水鍍PNP、PCP再真空電鍍,那些材質(zhì)在目前條件下還不能實(shí)現(xiàn)真空電鍍。**、真空電鍍以不銹鋼材質(zhì)為優(yōu),金屬真空電鍍廠有著20多年的鍍膜經(jīng)驗(yàn),涉及到的電鍍產(chǎn)品90%以上都是不銹鋼材質(zhì),因其本身致密性較好,膜層覆蓋在上面附著力就
PVD真空電鍍行業(yè)在**的局勢(shì)分析:聚氯乙烯電鍍技術(shù)是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一,在濺射電鍍和濺射靶材生產(chǎn)中發(fā)揮著重要作用。PVD真空電鍍技術(shù)起源于國(guó)外。在行業(yè)發(fā)展初期,電鍍?cè)O(shè)備和電鍍材料主要由國(guó)外制造商生產(chǎn)提供。目前,國(guó)內(nèi)濺射靶材生產(chǎn)企業(yè)數(shù)量也在增加,但**PVD真空電鍍技術(shù)仍落后于其他技術(shù)。長(zhǎng)期以來(lái),**PVD真空電鍍材料的開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)主要集中在美國(guó)、日本和德國(guó)的少數(shù)公司,產(chǎn)業(yè)集中度較高。在
金屬PVD真空鍍膜具有結(jié)合力強(qiáng)、色彩保護(hù)較持久、耐磨性強(qiáng)等特點(diǎn),在一定程度上較**傳統(tǒng)化學(xué)鍍,那么兩者相較這種真空鍍膜工藝能取代傳統(tǒng)的化學(xué)鍍膜工藝嗎?答案是否定的,至少在現(xiàn)今是否定的。就如今的電鍍技術(shù)方面,現(xiàn)在的金屬PVD真空鍍膜只能直接在不銹鋼材料表面進(jìn)行鍍膜,但是很多其他的材料都不能直接進(jìn)行電鍍,其中包括鋅合金、銅、銀等,有的需要化學(xué)鍍鉻或鎳作為底層保護(hù),然后才能再進(jìn)行鍍膜。由于許多五金零配件
公司名: 深圳森豐真空鍍膜有限公司
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