交流電源供應(yīng)器(AC Source)是指在在產(chǎn)品測(cè)試上能輸出各種交流電源規(guī)格的儀器電源, 你可以通過(guò)它任意設(shè)定交流電源輸出的電壓、電流、頻率或者隨時(shí)間變換的V-I曲線。這是大多數(shù)電子設(shè)備實(shí)驗(yàn)室特別是電源實(shí)驗(yàn)室的*設(shè)備。雖說(shuō)這是實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備,大多數(shù)工程師仍然對(duì)交流電源供應(yīng)器的采購(gòu)選型非常頭疼。
德國(guó)EA可編程直流電源EA-PS 9000 3U系列是一款由微處理器控制的高效實(shí)驗(yàn)室電源,其標(biāo)準(zhǔn)型號(hào)配備多種功能和特征,用戶使用起來(lái)非常方便、有效??刂泼姘迳锨逦胤植加袃蓚€(gè)旋鈕,六個(gè)按鈕,以及兩個(gè)LED 燈。同時(shí)還有一顯示所有數(shù)值與狀態(tài)的藍(lán)色液晶顯示器,從而簡(jiǎn)化了產(chǎn)品的使用。PS 9000 ZH 3U系列高性能電源因其僅3U高19”的外殼結(jié)構(gòu),特別適合于系統(tǒng)測(cè)試與工業(yè)控制。經(jīng)電腦或PLC(可編程控制器)遠(yuǎn)程控制時(shí),德國(guó)EA可編程直流電源EA-PS 9000 3U系列,后板提供了一個(gè)USB-B型插槽與以太網(wǎng)端口,還有一電隔離模擬接口。所有接口隔離耐壓高達(dá)1500 V DC。若想獲得較大的輸出功率,可按照用戶需求,將多臺(tái)單機(jī)裝于較高達(dá) 42U 的機(jī)柜內(nèi),以獲得高達(dá) 150kW 的功率。
詞條
詞條說(shuō)明
開(kāi)關(guān)型與線性穩(wěn)壓電源不同的一類穩(wěn)電源就是開(kāi)關(guān)型直流穩(wěn)壓電源,它的電路型式主要有單端反激式,單端正激式、半橋式、推挽式和全橋式。它和線性電源的根本區(qū)別在于它變壓器不工作在工頻而是工作在幾十千赫茲到幾兆赫茲。功能管不是工作在飽和及截止區(qū)即開(kāi)關(guān)狀態(tài);開(kāi)關(guān)電源因此而得名??烧{(diào)直流穩(wěn)壓電源開(kāi)關(guān)電源的優(yōu)點(diǎn)是體積小,重量輕,穩(wěn)定可靠;缺點(diǎn)相對(duì)于線性電源來(lái)說(shuō)紋波較大(一般≤1%VO(P-P),好的可做到十幾mV(
航天事業(yè)擔(dān)負(fù)著特殊的國(guó)家使命。航天通信系統(tǒng)具有**性和保密性特點(diǎn),特別是較高的時(shí)效性要求。通信電源的可靠性是航天通信部門首要考慮的問(wèn)題,是通信系統(tǒng)安全運(yùn)行的重要保證。當(dāng)前,航天系統(tǒng)各通信局(站)普遍采用UPS系統(tǒng)作為IT設(shè)備的主用電源,它克服了因市電中斷而導(dǎo)致的系統(tǒng)中斷。但是,UPS自身、甚至并機(jī)冗余系統(tǒng)的故障導(dǎo)致網(wǎng)絡(luò)通信事故也時(shí)有發(fā)生,已產(chǎn)生較大的社會(huì)影響和相當(dāng)?shù)慕?jīng)濟(jì)損失。240V高壓直流供電系
直流電源有正、負(fù)兩個(gè)電極,正極的電位高,負(fù)極的電位低,當(dāng)兩個(gè)電極與電路連通后,能夠使電路兩端之間維持恒定的電位差,從而在外電路中形成由正極到負(fù)極的電流。直流電源是一種能量轉(zhuǎn)換裝置,它把其他形式的能量轉(zhuǎn)換為電能供給電路,以維持電流的穩(wěn)恒流動(dòng)。單靠水位高低之差不能維持穩(wěn)恒的水流,而借助于水泵持續(xù)地把水由低處送往高處就能維持一定的水位差而形成穩(wěn)恒的水流。與此類似,單靠電荷所產(chǎn)生的靜電場(chǎng)不能維持穩(wěn)恒的電流
直流開(kāi)關(guān)電源應(yīng)用特點(diǎn)
1、降低孔隙率,晶核的形成速度大于成長(zhǎng)速度,促使晶核細(xì)化。2、改善結(jié)合力,使鈍化膜擊穿,有利于基體與鍍層之間牢固的結(jié)合。3、改善覆蓋能力和分散能力,高的陰極負(fù)電位使普通電鍍中鈍化的部位也能沉積,減緩形態(tài)復(fù)雜零件的**部位由于沉積離子過(guò)度消耗而帶來(lái)的“燒焦”“樹(shù)枝狀”沉積的缺陷,對(duì)于獲得一個(gè)給定特性鍍層(如顏色、無(wú)孔隙等)的厚度可減少到原來(lái)1/3~1/2,節(jié)省原材料。4、降低鍍層的內(nèi)應(yīng)力,改善晶格缺
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