SiC碳化硅晶圓減薄機(jī)GNX200BH_岡本

    SiC碳化硅晶圓減薄機(jī)GNX200BH_岡本
    適用于硬質(zhì)材質(zhì)減?。?
    SiC碳化硅晶圓減薄機(jī)GNX200BH是一臺(tái)可研磨超硬材料的全自動(dòng)減薄設(shè)備,采用大功率主軸和高剛性鑄件,可以大幅縮小加工公差。
    GNX200BH在應(yīng)對(duì)SiC碳化硅晶圓、GaN氮化鎵晶圓等新型堅(jiān)硬材料為原材料的晶圓減薄/研磨/研削時(shí)表現(xiàn)優(yōu)秀。
    
    
    GNX200BH_岡本SiC碳化硅晶圓減薄機(jī)規(guī)格:
    項(xiàng)目	參數(shù)
    主軸	雙研磨主軸
    工作盤	三個(gè)工作盤
    晶圓材質(zhì)	碳化硅、氮化鎵、硅、玻璃、微機(jī)械系統(tǒng)、等…
    功率	6.7KW 8P
    尺寸	1350 mm x 2515mm x 1841mm
    
    
    
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    上海衡鵬實(shí)業(yè)有限公司專注于錫膏,錫膏粘度計(jì),波峰焊等

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    GDM300是具有雙拋光工位的全自動(dòng)晶圓研磨機(jī) 晶圓拋光GDM300全自動(dòng)晶圓研磨機(jī)特長(zhǎng): ·采用全自動(dòng)系統(tǒng),從后磨到貼裝的連續(xù)過(guò)程,可研磨至25um厚度。 ·2個(gè)磨頭階段,產(chǎn)量幾乎是1個(gè)磨頭系統(tǒng)的兩倍。 ·內(nèi)置修邊系統(tǒng)可作為薄型晶圓加工的選擇。 ·雙指標(biāo)體系,拋光階段和研磨階段完全分離,滿足TSV和MEMS工藝所需的清潔。 ·**亮度小于Ra1A,可**鏡面。 了解更多:http://www.hap

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