等離子清洗機用于半導(dǎo)體晶圓清洗工藝

時間：2022-04-01作者：煙臺金鷹科技有限公司瀏覽：209

等離子清洗機在半導(dǎo)體晶圓清洗工藝中的應(yīng)用：等離子體清洗機具有工藝簡單、操作方便、沒有廢料處理和環(huán)境污染等問題。等離子清洗機常用于光刻膠的去除工藝中,在等離子體反應(yīng)系統(tǒng)中通入少量的氧氣,在強電場作用下,使氧氣產(chǎn)生等離子體,迅速使光刻膠氧化成為可揮發(fā)性氣體狀態(tài)物質(zhì)被抽走。等離子清洗機在去膠工藝中具有操作方便、表面干凈、無劃傷、有利于確保產(chǎn)品的質(zhì)量等優(yōu)點,而且等離子清洗機不用酸、堿及**溶劑等



等離子清洗機Plasma Cleaner又被稱為等離子蝕刻機、等離子去膠機、等離子活化機、Plasma清洗機、等離子表面處理機、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子處理機廣泛應(yīng)用于等離子清洗、等離子刻蝕、等離子晶圓去膠、等離子涂覆、等離子灰化、等離子活化和等離子表面處理等場合，通過等離子清洗機的表面處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進行涂覆、涂鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除**污染物、油污或油脂.














在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中，等離子清洗設(shè)備是一個重要環(huán)節(jié)，它適用于對原料和半成品每一步可能存在的雜質(zhì)進行清洗，以避免雜質(zhì)影響產(chǎn)品的質(zhì)量和下游產(chǎn)品的性能，等離子清洗設(shè)備對于單晶硅的生產(chǎn)、光刻、刻蝕、沉積等關(guān)鍵工藝以及封裝工藝中的使用都是**的。



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• 等離子清洗機知識介紹

  等離子清洗機能夠清除金屬、陶瓷、塑料、玻璃表面的**污染物，可以明顯改變這些表面的粘接性及焊接強度。離子化過程能夠容易地控制和安全地重復(fù)實現(xiàn)?？梢哉f，有效的表面處理對于產(chǎn)品的可靠性或過程效率的提高是至關(guān)重要的，等離子技術(shù)也是目前較理想的技術(shù)。通過表面活化，等離子技術(shù)可以改善絕大多數(shù)物質(zhì)的性能：潔凈度、親水性、斥水性、粘結(jié)性、標(biāo)刻性、潤滑性、耐磨性。在材料生產(chǎn)過程中，等離子表面改性技術(shù)已經(jīng)逐漸成為

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  采用等離子表面處理機處理技術(shù)對玻璃改性，有設(shè)備簡單，原材料消耗低，成本低，產(chǎn)品附加值高等特點，優(yōu)化了玻璃鍍膜、粘合、去膜工藝，低溫等離子體表面處理機改性材料已廣泛應(yīng)用于電容、電阻式手機觸摸屏等某些需要精加工的玻璃。玻璃經(jīng)等離子清洗機處理后可解決了玻璃粘合困難，印刷，電鍍等難題。等離子清洗機Plasma Cleaner又被稱為等離子蝕刻機、等離子去膠機、等離子活化機、Plasma清洗機、等離子表面處