臥式砂磨機(jī)的工作原理及介質(zhì)填充率
臥式砂磨機(jī)的研磨介質(zhì)填充率從40%增加至75%時(shí),運(yùn)行電流曲線呈上升趨勢(shì),反映砂磨機(jī)中的研磨介質(zhì)得到充分?jǐn)噭?dòng),能量需求變化大;填充率在75%-85%,運(yùn)行電流曲線變化平穩(wěn),反映砂磨機(jī)中的介質(zhì)達(dá)到一個(gè)平衡點(diǎn),能量需求穩(wěn)定,填充率大于85%,運(yùn)行電流曲線變化呈下降趨勢(shì),反映砂磨機(jī)中的研磨介質(zhì)過(guò)量,研磨介質(zhì)與分散盤之間有滑動(dòng)現(xiàn)象,分散盤不能帶動(dòng)所有研磨介質(zhì)運(yùn)動(dòng),能量需求降低。因此,根據(jù)砂磨機(jī)的電流變化曲線可知,研磨介質(zhì)適宜的填充率為80%。
使用臥式砂磨機(jī)時(shí)應(yīng)注意什么
不使用臥式磨光機(jī)時(shí),磨具的上下工作面應(yīng)裝在一起或用單蓋放置。這樣可以避免磨具表面被陽(yáng)光直接照射而掉入塵屑中。否則,磨具表面會(huì)老化,熱變形,不清潔的表面會(huì)影響研磨精度。
應(yīng)注意仔細(xì)操作和研磨時(shí)間。小心操作是良好研磨的關(guān)鍵。強(qiáng)調(diào)了其作用是保護(hù)研磨工具的工作表面,使其在使用中不易損壞。這就需要注意研磨劑和研磨液的消耗以及加工過(guò)程中出現(xiàn)的異常現(xiàn)象(如工件傾倒、輻條位置不當(dāng)和運(yùn)動(dòng)不均勻),注意工件的輕處理,并掌握好適當(dāng)?shù)难心r(shí)間。
研磨工具成對(duì)使用時(shí),由于下研磨工具的磨損比上研磨工具的磨損快,選擇研磨工具時(shí)應(yīng)考慮具有良好的插砂性能和略高硬度的研磨工具。精密平面的磨削,應(yīng)嚴(yán)格遵循研磨工具固定、上研磨工具浮動(dòng)靈活的原則,不得強(qiáng)迫兩個(gè)研磨工具相互固定。
砂磨機(jī)潤(rùn)滑劑的選擇
潤(rùn)滑劑的品種很多,并各有特性,大致可歸納為以下兩大類:
(1)液態(tài)潤(rùn)滑劑:常用的有煤油、、機(jī)油,透平油、豬油、工業(yè)用甘油、酒精、肥皂水和水等。
(2)固態(tài)潤(rùn)滑劑:常用的有硬脂酸、硬脂和石蠟等,另外還有油酸與脂肪酸,大都用來(lái)制造研磨膏。
在砂磨機(jī)使用中,切削液具體地加與不加,或加多少,則要根據(jù)研磨的具體工藝要求來(lái)確定。在粗研磨時(shí)就不加或很少加,而在嵌砂精研磨時(shí)就要考慮酌加透平油和硬脂酸等。此外,肥皂水或水在研磨和拋光使用中,要注意加少量防銹劑。
詞條
詞條說(shuō)明
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臥式砂磨機(jī)和立式砂磨機(jī)區(qū)別 砂磨機(jī)主要是靠研磨介質(zhì)和物料之間的高速旋轉(zhuǎn)作用來(lái)進(jìn)行研磨工作的。按照外部的形態(tài)來(lái)看,砂磨機(jī)主要可分為立式砂磨機(jī)和臥式砂磨機(jī)。那么這兩者僅僅是外部形態(tài)的區(qū)別嗎?以下我們就來(lái)看看,他們?cè)谛阅苌嫌惺裁磪^(qū)別。 首先,從制造的難度來(lái)進(jìn)行比較。立式砂磨機(jī)由于避免了密封方面的問(wèn)題,在制造上就較為容易,成本造價(jià)也就較低。所以,立式砂磨機(jī),較加適合一些對(duì)產(chǎn)品要求比較低,但是需要有高產(chǎn)量
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分散劑對(duì)納米砂磨機(jī)研磨有什么幫助 在納米磨機(jī)的實(shí)際操作過(guò)程中,材料顆粒的破碎主要取決于高速磨粒之間的碰撞、擠壓和剪切,以實(shí)現(xiàn)較小的顆粒尺寸和較大的比表面積。在晶粒細(xì)化過(guò)程中,粒子在范德華力和靜電雙層的作用下會(huì)重新團(tuán)聚。也就是說(shuō),研磨后,它們粘在一起!這將大大降低產(chǎn)品質(zhì)量,所以我們需要選擇分散劑來(lái)解決這個(gè)問(wèn)題。 伴隨著一系列的微觀物理化學(xué)性質(zhì)的顆粒,會(huì)有“粉碎”嗎?重逢的可逆過(guò)程。當(dāng)正負(fù)速度相等時(shí)
臥式砂磨機(jī)的工作原理及介質(zhì)填充率 臥式砂磨機(jī)的研磨介質(zhì)填充率從40%增加至75%時(shí),運(yùn)行電流曲線呈上升趨勢(shì),反映砂磨機(jī)中的研磨介質(zhì)得到充分?jǐn)噭?dòng),能量需求變化大;填充率在75%-85%,運(yùn)行電流曲線變化平穩(wěn),反映砂磨機(jī)中的介質(zhì)達(dá)到一個(gè)平衡點(diǎn),能量需求穩(wěn)定,填充率大于85%,運(yùn)行電流曲線變化呈下降趨勢(shì),反映砂磨機(jī)中的研磨介質(zhì)過(guò)量,研磨介質(zhì)與分散盤之間有滑動(dòng)現(xiàn)象,分散盤不能帶動(dòng)所有研磨介質(zhì)運(yùn)動(dòng),能量需
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