平板狀氧化鋁拋光研磨微粉

時(shí)間：2020-10-26作者：淄博市淄川大眾磨料廠瀏覽：449

平板狀氧化鋁拋光研磨微粉的特點(diǎn)：

1.此產(chǎn)品主要成分為工業(yè)氧化鋁，純度達(dá)到99%以上，具有化學(xué)惰性，優(yōu)異的耐熱性，耐酸堿腐蝕性

2、晶體形狀為六角平板狀，區(qū)別于傳統(tǒng)磨料的等體積或者球形，此形狀使得磨料顆粒在研磨過程中平行于被加工工件（如半導(dǎo)體硅片等）表面，產(chǎn)生滑動(dòng)的研磨效果，而非傳統(tǒng)的磨料滾動(dòng)研磨，因而不容易對(duì)工件表面產(chǎn)生劃傷，同時(shí)因?yàn)檠心毫κ蔷鶆蚍植荚谄桨孱w粒表面，顆粒破碎減少，耐磨性大幅度提高，因而能提供較佳的磨削效率，因此可減少磨片機(jī)的數(shù)量、人工和磨削時(shí)間，如顯像管玻殼磨削工效能提高3-5倍；對(duì)于被磨對(duì)象來說不易劃傷，合格品率可提高10%至15%，如半導(dǎo)體硅片，其合格品率一般能達(dá)到99%以上。質(zhì)量達(dá)到或**過國外同類產(chǎn)品，如日本FUJIMI公司的PWA和美國Microgrit 的WCA，但是價(jià)格只有同類產(chǎn)品的一半，大大提高了工廠的工作效率，降低了成本。

3.由于硬度比普通氧化鋁研磨拋光微粉高，故用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要少，如果磨同樣數(shù)量的產(chǎn)品，其用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要節(jié)約40%至50%
平板型氧化鋁研磨拋光微粉的用途:MCA產(chǎn)品特別適合研磨、拋光半導(dǎo)體單晶多晶硅片、顯像管玻殼玻屏、水晶、石英玻璃、硬質(zhì)玻璃、光學(xué)玻璃、液晶顯示器（LCD）玻璃基板、壓電石英晶體、化合物半導(dǎo)體材料、精密陶瓷材料、高檔軸承球、襯、藍(lán)寶石，磁性材料等。同時(shí)它還可做燒結(jié)陶瓷原料、高檔高溫涂料(高檔油漆,密封膠,化妝品)的填充材料。


淄博市淄川大眾磨料廠專注于平板狀氧化鋁研磨微粉等

• 詞條

  詞條說明

• 平板狀氧化鋁研磨微粉的制備工藝

  ? ? ? 平板狀氧化鋁的制備可以通過很多方法，主要有熔鹽法、水熱(醇熱)法、涂膜法、機(jī)械法以及液相間接制備法等。 ?1、熔鹽法?將所需組分的反應(yīng)物與2種鹽按照一定比例混合，然后在**鹽的熔點(diǎn)的溫度下進(jìn)行煅燒，由于氧化物重新排布并*擴(kuò)散到液態(tài)鹽中進(jìn)行反應(yīng)而生成產(chǎn)物，冷卻后經(jīng)去離子水清洗除去其中的鹽分得到純凈產(chǎn)物的一種粉體合成方法。 ?

• 平板狀氧化鋁研磨微粉

  平板狀氧化鋁研磨微粉氧化鋁有多種不同的類型，常規(guī)的氧化鋁與其他金屬氧化物一樣，本身的硬度大，熔點(diǎn)高，機(jī)械強(qiáng)度好，且耐腐蝕抗氧化。平板狀氧化鋁還因其*特的片狀結(jié)構(gòu)和晶體形狀，從而具備了微米粉體和納米材料的雙重特性。它屬于α-Al2O3，具有明顯的鱗狀結(jié)構(gòu)特征和較大的徑厚比。 目前，平板狀氧化鋁晶粒的徑向尺度一般為5-50 μm，厚度一般在100-500 nm之間，晶型發(fā)育良好的微粒還表現(xiàn)出規(guī)則的六角

• 平板狀氧化鋁拋光研磨微粉

  平板狀氧化鋁拋光研磨微粉的特點(diǎn)：1.此產(chǎn)品主要成分為工業(yè)氧化鋁，純度達(dá)到99%以上，具有化學(xué)惰性，優(yōu)異的耐熱性，耐酸堿腐蝕性2、晶體形狀為六角平板狀，區(qū)別于傳統(tǒng)磨料的等體積或者球形，此形狀使得磨料顆粒在研磨過程中平行于被加工工件（如半導(dǎo)體硅片等）表面，產(chǎn)生滑動(dòng)的研磨效果，而非傳統(tǒng)的磨料滾動(dòng)研磨，因而不容易對(duì)工件表面產(chǎn)生劃傷，同時(shí)因?yàn)檠心毫κ蔷鶆蚍植荚谄桨孱w粒表面，顆粒破碎減少，耐磨性大幅度提高，

• 半導(dǎo)體晶片的研磨

  ? ? ? ? 半導(dǎo)體晶片研磨??磨削和研磨等磨料處理，對(duì)晶體的切片表面和厚度進(jìn)行精細(xì)加工是半導(dǎo)體晶片加工的重要工序。然而研磨會(huì)導(dǎo)致芯片表面的完整性變差。因此，拋光的一致性、均勻性和表面粗糙度對(duì)生產(chǎn)芯片來說是十分重要的。其目的是保證晶片達(dá)到一定的厚度要求，去除晶片切割中產(chǎn)生的刀痕，并控制表面損傷層的厚度及其一致性。晶片研磨的基本技術(shù)是磨削