(A)對(duì)材料表面的刻蝕作用
物理作用 等離子體中的大量離子、激収態(tài)分子、自由基等多種活性粒子,作用到固體樣品表面,清除了表面原有的污染物和雜質(zhì),而且會(huì)產(chǎn)生刻蝕作用,將樣品表面變粗糙,形成許多微細(xì)坑洼,增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤濕性能。
(B)激活鍵能,交聯(lián)作用 等離子體中的粒子能量在 0~20eV,而聚合物*部分的鍵能在 0~10eV,因此等離子體作用到固體表面后,可以將固體表面的原有的化學(xué)鍵產(chǎn)生斷裂,等離子體中的自由基中的這些鍵形成網(wǎng)狀的交聯(lián)結(jié)構(gòu),大大地激活了表面活性。
(C)形成新的官能團(tuán) 化學(xué)作用如果放電氣體中引入反應(yīng)性氣體,那么在活化的材料表面會(huì)發(fā)生復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng),引入新的官能團(tuán),如烴基、氨基、羧基等,這些官能團(tuán)都是活性基團(tuán),能明顯提高材料表面活性。
通過其處理,能夠改善材料表面的浸潤能力,使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作,增強(qiáng)粘合力、鍵合力,同時(shí)去除**污染物、油污或油脂。
等離子清洗機(jī)的功能目前來看也許只是冰山一角,具體的功能,碰到具體的應(yīng)用時(shí)就會(huì)體現(xiàn)出來。等離子體清洗的較大技術(shù)特點(diǎn)是,它不分處理對(duì)象,可處理不同的基材,無論是金屬,半導(dǎo)體、氧化物、還是高分子次材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高聚物)都可用等離子體很好地處理。因此特別適合不耐熱和不耐溶劑的基底材料。而且還可以有選擇地對(duì)材料的整體,局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行部分清洗。在完成清洗去污的同時(shí),還能改變材料的本身的表面性能,如提高表面的潤濕性能,改善膜的附著力等,這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。
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詞條說明
UV固化,這里“UV”是紫外線的英文縮寫,固化是指物質(zhì)從低分子轉(zhuǎn)變?yōu)楦叻肿拥倪^程。UV固化一般是指需要用紫外線固化的涂料(油漆)、膠粘劑(膠水)或其它灌封密封劑的固化條件或要求,其區(qū)別于加溫固化、膠聯(lián)劑(固化劑)固化、自然固化等。UV固化是通過一種單體/低聚物的混合物的快速聚合而獲得一種也可交聯(lián)的涂膜的一種技術(shù)。UV體系的這種快速聚合是用光引發(fā)劑和高性能的燈來實(shí)現(xiàn)的。UV固化爐就是通過一種單體/低
什么是UV爐?UV爐有手提式的、抽屜式的、隧道式的,只有隧道式的有傳送帶,是UV爐的一內(nèi)種,具體還要看UV燈的容W數(shù),如果UV燈**過3KW基本上就是隧道式的了。其他形式的扇熱打不到要求。隧道爐分幾種:UV輸送爐,IR輸送爐,熱隧道爐UV爐就是里面裝UV燈管,用于紫外線固版化的IR爐就是里面裝權(quán)IR燈管,用于紅外線干燥熱輸送爐里面裝的是發(fā)熱管,有不銹鋼發(fā)熱管和黑管之分,用于熱干燥機(jī)體都是以輸送為標(biāo)準(zhǔn)
三坐標(biāo)測量儀系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化的條件
由于高精度的要求,三坐標(biāo)檢測系統(tǒng)一直對(duì)工作環(huán)境比較苛刻。誠然,恒溫?zé)o塵的工作間能夠保證三坐標(biāo)測量儀精確度和重復(fù)性,但卻限制了質(zhì)量檢測環(huán)節(jié)的工作效率,不利于企業(yè)對(duì)生產(chǎn)過程的控制。因此,在自動(dòng)化生產(chǎn)線中整合三坐標(biāo)檢測系統(tǒng)必將成為一大趨勢。三坐標(biāo)測量儀機(jī)型選擇目前自動(dòng)型測量儀已經(jīng)得到廣泛的應(yīng)用,基本上實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化控制,配合全自動(dòng)測座,三坐標(biāo)操作員只需要通過控制系統(tǒng)的操作桿就能讓測頭完成測量工作。因此,自動(dòng)
殘余應(yīng)力儀原理是什么?1、X射線衍射法測量殘余應(yīng)力的原理:基于著名的布拉格方程2dsinθ=nλ :即一定波長的X射線照射到晶體材料上,相鄰兩個(gè)原子面衍射時(shí)的X射線光程差正好是波長的整數(shù)倍。通過測量衍射角變化Δθ從而得到晶格間距變化Δd,根據(jù)胡克定律和彈性力學(xué)原理,計(jì)算出材料的殘余應(yīng)力。2、盲孔法測量殘余應(yīng)力的原理:假設(shè)一個(gè)各向同性材料上某一區(qū)域內(nèi)存在一般狀態(tài)的殘余應(yīng)力場,其較大、較小主應(yīng)力分別為
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