非線性晶體-鈮酸鋰晶體、ZGP晶體、KDP，DKDP晶體 選型事項

時間：2020-01-21作者：深圳維爾克斯光電有限公司瀏覽：690

深圳維爾克斯光電代理的立陶宛Optogama非線性光學晶體，是對于激光強電場顯示二次以上非線性光學效應的晶體。非線性光學晶體是一種功能材料，其中的倍頻（或稱“變頻”）晶體可用來對激光波長進行變頻，從而擴展激光器的可調諧范圍，在激光技術領域具有重要應用**。立陶宛Optogama公司為基礎研究、應用研究和工業(yè)應用提供不同的非線性晶體。晶體生產技術有：通量法，CZ，Stepanov，Kyropoulos，溫度梯度法。本文介紹的晶體有以下3種：KDP，DKDP晶體、鈮酸鋰晶體、ZGP晶體。


二磷化鍺鋅(ZnGeP2，ZGP)晶體因其*特的性能被認為是中紅外非線性晶體的“標準”。它們具有較好的非線性(d36=75 pm/V@9.6μm)和熱導率(36W/mk@|c，35W/mk@⊥c)，包括相對較高的激光損傷閾值。ZGP晶體具有較寬的傳輸范圍(2μm-12μm)，可成功應用于大功率中紅外諧波發(fā)生器、差頻發(fā)生器和光學參量振蕩器。


磷酸二氫鉀(KH2PO4, KDP)和磷酸二氘鉀(KD2PO4, DKDP)晶體是較古老的非線性材料之一。DKDP和KDP被稱為類似物，盡管它們的性質因DKDP氘化而不同，但是它們都具有良好的紫外透過性和高的損傷閾值。因為非線性度相對較低，所以這些晶體可以大批量生產。他們發(fā)現它們被應用于摻Nd激光器的非線性倍頻器、三倍頻器和諧振器，以及Ti：藍寶石、綠寶石和摻釹激光器的Q開關器件。主要缺點是這些晶體具有很強的吸濕性，因此必須確保密封外殼和干燥操作條件。


鈮酸鋰(LiNbO3, LN)是光子學和光電子領域的一種多用途材料.其透光范圍從4 2 0nm到5.2μm，具有優(yōu)良的非線性光學、電光和壓電性能。較常見的應用包括紅外距離光調制和Q開關，非線性頻率轉換>1μm波長。它們的電學和光學性能可以通過摻雜鎂或鋯來調節(jié)。


KDP，DKDP晶體主要特點：
-優(yōu)良的紫外線輻射傳輸
-高激光損傷閾值
-可根據要求提供定制晶體


KDP，DKDP晶體主要應用：
-Nd摻雜激光器的倍頻器、三倍頻器和四倍頻器
-Ti：藍寶石，綠寶石，Nd摻雜激光器的調Q開關


KDP，DKDP晶體技術特性：
化學公式 KH2PO4 (KDP) KD2PO4 (DKDP)
晶體結構 四邊形，42m 四邊形，42m
晶格參數 負單軸(NO>Ne) 負單軸(NO>Ne)
密度 2.332克/cm3 2.355克/cm3
Mohs硬度 2.5 2.5
透光范圍 180 nm-1.5μm 200 nm-2μm
折射率@1，06μm no=1.4938，ne = 1.4599 no=1.4931，ne = 1.4582
KDP Sellmeier方程@T=293 K(λinμm) no2=2.259276+13.00522λ2/(λ)2-400)+0.01008956/(λ)2 - (77,26408)-1); ne2=2.132668+3.2279924λ2/(λ)2-400)+0.008637494/(λ)2 - (81.42631)2)
Sellmeier方程@T=293K(λinμm) no2=2.240921+2.246956λ2/(λ)2 - (11.26591)2)+0.009676/(λ)2 - (0.124981)2); ne2=2.126019+0.784404λ2/(λ)2- (11.10871)2)+0.008578/(λ)2 - (0.109505)2)


KDP，DKDP晶體產品規(guī)格：
定位精度 <30 arcmin
透明孔徑 >90%
面尺寸公差 +0/-0.1毫米
長度公差 ±0.1毫米
平行度誤差 <20 arcsec
垂直度誤差 <5 arcmin
保護槽 <0.1 mm at 45°
表面質量 20-10 S-D
波前平坦度 <λ/4@6328 nm
涂層 雙面抗反射涂層
激光損傷閾值 >10 J/cm2@1064 nm，KDP晶體10 ns


KDP，DKDP晶體產品型號：
SKU 材料 面尺寸 長度 塞塔 PHI 涂敷 應用 價格（RMB）
9421 KDP 12x12毫米 5毫米 76.5° 45° AR/Ar@532/266 nm SHG@532NM，I型 3400
9422 KDP 15x15毫米 7毫米 76.5° 45° AR/Ar@532/266 nm SHG@532NM，I型 3900
9423 DKDP 15x15毫米 13毫米 36.5° 45° AR/Ar@532+1064 nm SHG@1064NM，I型 3950
9424 DKDP 15x15毫米 13毫米 53° 0° AR/Ar@532+1064 nm SHG@1064NM，第二類 3950
9425 DKDP 12x12毫米 20毫米 59.3° 0° AR/Ar@532+1064/355 nm THG@1064，第二類 3850
9426 DKDP 12x12毫米 20毫米 53° 0° AR/Ar@1064/532+1064nm SHG@1064NM，第二類 3850
9427 DKDP 15x15毫米 20毫米 53° 0° AR/Ar@1064/532+1064 nm SHG@1064NM，第二類 4850
9428 DKDP 15x15毫米 20毫米 59.3° 0° AR/Ar@532+1064/355 nm THG@1064NM，第二類 4850


鈮酸鋰晶體主要特點：
-透光率范圍從420 nm到5200 nm
-高非線性電光和聲光系數
-非吸濕性，機械和化學穩(wěn)定性。


鈮酸鋰晶體主要應用：
-電光調制與Q開關
-1064 nm泵浦光參量振蕩器
-周期較化鈮酸鋰準相位匹配器件）


鈮酸鋰晶體技術特性：
化學公式 LiNbO3
晶體結構 三角形，3m
光學對稱性 負單軸(N)o>ne)
密度 4.64克/厘米3
Mohs硬度 5
透明度范圍 4 2 nm-5.2μm
Sellmeier方程(λinμm) no2=4.9048+0.11768/(λ)2-0.04750)-0.027169λ2;  ne2=4，5820+0，099169/(λ)2-0.04443)-0.021950λ2
折射率@1064 nm no=2.220，ne = 2.146


ZGP晶體的主要特點：
-有效傳輸范圍從2μm到12μm
-高非線性(D)36=下午75：00/V@96μm)
-相對較高的損傷閾值(>60 mW/cm2)


ZGP晶體的主要應用：
-用OPO和DFG技術產生中波、長波紅外連續(xù)可調諧輻射
-CO2和CO激光基波波長的諧波產生
-太赫茲距離頻率的產生


ZGP晶體的技術特性：
化學公式 ZnGeP2
晶體結構 四邊形，42m
晶格參數 A=5.465 a，c=10.708
光學對稱性 正單軸(N)e>no)
密度 4.162克/厘米3
Mohs硬度 5.5
透明度范圍@“0”透過率水平 0.74-12μm
Sellmeier方程@0.54-12.9μm(λinμm) no2=11.6413+0.69363/(λ)2 – 0.21967) + 1586.06/(λ)2 – 832.75);          ne2=12.1438+0.75255/(λ)2 – 0.21913) + 2061.68/
(λ)2 – 951.07)
折射率@10.5μm no=3 0738，ne = 3,1137
導熱系數@T=293 K 36(\x{e76f}c)-1K-1，35(⊥c)Wm-1K-1
激光損傷閾值 60兆瓦/厘米2@10.6μm，100 ns





深圳維爾克斯光電有限公司專注于激光防護鏡,衍射光學元件,DOE等, 歡迎致電 18926463275

• 詞條

  詞條說明

• 光學元件的正確清理方法

  請注意，干凈的光學元件可保證優(yōu)越的性能，灰塵、污跡和其他的微粒會降低光的透射或者反射。在進行所有的操作前請戴好手套。如何清潔光學鏡片，請查看光學元件清潔的注意事項和操作步驟。如果光學元件只是表面上有些灰塵，不要用你的嘴使勁的吹，也不要使用你的唾液清潔。請使用氣壓槍，在清潔光學元件時，非接觸式清潔是較安全的清潔方法，因此第一步請使用氣壓槍。當你想清潔指紋或者其他污漬時，較好使用鏡頭紙和溶劑。當你使用

• Layertec的光學鍍膜方法

  光學涂層廣泛用于改變鏡片表面的反射率，從眼鏡到高功率激光應用。本文經常使用的三種主要涂層技術的概述。這幾種技術介紹了介電和金屬涂層背后的物理原理，以及結合金屬和介電層的可能性。Layertec掌握了飛秒激光鍍膜的**科技，其鍍膜具有低色散、高損傷閾值的特點。對于脈沖100多飛秒，其損傷閾值可以達到接近1J/cm2。一、熱蒸鍍和電子束蒸發(fā)（Thermal and Electron Beam Evap

• 夠產生渦旋光的零級渦旋半波片和螺旋相位板

  螺旋相位片與零級渦旋半波片都被用于產生空心的拉蓋爾-高斯光束，俗稱渦旋光。有些需要獲得渦旋光束的應用場合，用戶既可以選擇零級渦旋半波片，又可以選擇螺旋相位板。但零級渦旋半波片是偏振元件，和入射光的偏振態(tài)有關，螺旋相位片是衍射元件（DOE），輸出效果與入射光的偏振態(tài)無關。那么，如何區(qū)分螺旋相位片與零級渦旋半波片呢？維爾克斯特意為行業(yè)同仁做了如下對比。零級渦旋半波片和螺旋相位板有很多相似之處-它們都

• 光纖光譜儀應用在檢測薄膜厚度

  首先介紹一下光的干涉。由于光的波動特性，若干列光波在空間相遇時，互相疊加或互相抵消，引起光強的重新分布，在某些區(qū)域始終加強，在某些區(qū)域始終減弱，從而出現了明暗相間的條紋，這種現象稱為光的干涉。使用光纖光譜儀測薄膜厚度上圖為使用海洋光學光纖光譜儀，利用干涉效應來測量薄膜厚度的原理圖。當一束光以θ1從薄膜表面入射，其中一部分光直接反射，另一部分光則以θ2進入薄膜發(fā)生折射，折射光經膜層下表面反射后，再經